
سمینار قابل ارائه در کارشناسی ارشد در مورد درس ت
ئوری تکنولوژی نیمه هادی ها قسمت نفوذ یا دیفیوژن می باشد .
این فایل همچنین نمای تمامی قسمت های مرحله ساخت ادوات نیمه هادی (قسمت نفوذ ناخالصی) را به ما می دهد .
مرحله های دیگر
ساخت نیمه هادی در این سایت موجود می باشد.
قسمتی از متن پاورپوینت :
فرایند نفوذ دارای دو مرحله می باشد.
1.نشست اولیه
هدف از نشست اولیه قرار دادن تعداد مشخصی از اتم های ناخالصی درسطح نیمه هادی است
2.نفوذ ثانویه(نفوذ عمیق)
در مرحله نشست اولیه تراکم سطحی بالا بوده و عمق نفوذ نیز خیلی کم بوده
کاهی اوقات درعمل لازم است عمق نفوذ بیشتر شده وتراکم سطحی کمترازقابلیت حل جامدات باشد
برای رسیدن به این هدف بعد ار نشست اولیه،مرحله نفوذ ثانویه انجام می شود
-
راهنمای استفاده:
فایل زیپ را اکسترکت کرده و از پاور پوینت استفاده کنید .
-
محتوای فایل دانلودی:
فایل زیپ شامل سمینار نفوذ به صورت پاور پوینت
سجاد
سهشنبه 22 تیر 1395 ساعت 07:56